Park NX-Mask

基于AFM的 EUV 掩膜修復及其他性能

  Park NX-Mask是一款用于修復高端EUV掩膜的創新型機臺。Park NX-Mask 采用最新的原子力顯微鏡技術，配有新一代的光罩修復系統，用于解決隨著器件尺寸縮小和光掩膜復雜性增加帶來的新式挑戰。從自動缺陷檢測到缺陷修復再到修復驗證的一站式解決方案為您提供了前所未有的修復效率，讓您的研究工作事半功倍。

- 無任何類型的缺陷損壞和修復風險

- 兼容雙EUV光罩盒

- 用于定位缺陷和修復后驗證的多效合一型解決方案

使用AFM探針安全可靠地修復缺陷

來自 EUV 光源的錫 (Sn) 顆粒等碎片可能會落到光罩上并降低其光反射率，導致設備不能進行精確地壓印。Park NX-Mask 利用其成熟的納米機械 AFM 技術，以絕對安全可靠的方式發現并去除外來顆粒、修正復雜的圖案缺陷。與傳統的光罩修復系統相比，Park NX-Mask能在不造成任何損壞或擾亂光罩表面的情況下精準執行修復。

安全性能

- 無光束靜電

- 無化學使用

- 無真空要求

卓越性能

- 納米級分辨率和修復精度

- 在同一系統可實現檢測掃描，到修復，到驗證的功能

- 經濟型高品質低成本

用于定位缺陷和修復后驗證的非接觸原子力顯微鏡技術

首先，Park NX-Mask 利用其獨有的非接觸式 AFM 技術進行全方位掃描以確定缺陷位置。此技術安全高效。在全方位掃描過程中，Park NX-Mask 不僅能精確計算缺陷數量并且精準定位缺陷位置，還能獲悉每種顆粒和缺陷的各類信息。 修復后，Park NX-Mask采用AFM真正非接觸式技術進行修復后的驗證，生成納米級3D形貌和其他關鍵性的計量數據，如表面粗糙度。

帕克 NX-Mask 掩模修補系統 修復后驗證由Park帕克原子力顯微鏡為您提供，如您想了解更多關于帕克 NX-Mask 掩模修補系統 修復后驗證 報價、型號、參數等信息，歡迎來電或留言咨詢。

注：該產品未在中華人民共和國食品藥品監督管理部門申請醫療器械注冊和備案，不可用于臨床診斷或治療等相關用途。