隨著半導(dǎo)體技術(shù)的高速發(fā)展，對超凈高純試劑的要求越來越高。高 純度雙氧水是電子工業(yè)中一種十分重要的化學(xué)品。主要用于集成電 路生產(chǎn)過程中硅片的清洗和光刻膠的剝離。雙氧水中的有機物、金 屬雜質(zhì)和非金屬雜質(zhì)的存在會嚴重影響雙氧水在電子工業(yè)的應(yīng)用。 而雜質(zhì)離子的存在會對半導(dǎo)體電路性能和蝕刻作用產(chǎn)生不利影響。 電感耦合等離子體發(fā)射光譜法具有快速、同時測定各種化學(xué)工業(yè)品 中痕量元素的能力。本文采用iCAP PRO系列電感耦合等離子體發(fā) 射光譜儀測試高純雙氧水中雜質(zhì)元素，樣品無需稀釋直接進樣，減 少環(huán)境和水對測定的影響，避免沾污，采用標準加入法消除基體干 擾，可以直接進樣測定高達50%濃度的雙氧水，提高了方法的準確 性和可靠性。