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安捷倫科技（中國）有限公司
Monowave 400 為微波合成研究提供了一個全新和先進的工具，使微波合成達到了前所未有的可靠性和性能。Monowave 400提供300℃和30 bar（435psi）的zei高單模微波工作溫度和壓力，為合成方法開發和反應優化提供了...
Monowave 200 為微波合成研究提供了一個全新和先進的工具，使微波合成達到了前所未有的可靠性和性能。 Monowave 200提供260℃和20 bar（可升級至300℃，30bar）的zei高單模微波工作溫度和壓力，為合成方法開發和反應優化提供了全新空間。 Monowave 200zei高的微波場保證了在任何反應體積、任何反應溶劑都能得到可重復的和出色的加熱速率，無需使用任何輔助加熱元件。zei先進的紅寶石晶體發光光纖傳感器保證了實時的反饋控制，同時也實現了zei高精度的溫度測量。
